top of page
PLD装置#1
PLD装置 (1号機: k-Pod)

​自作、ただし基本パーツの多くはパスカルから調達。

  • 基板レーザ加熱 (>1300℃)　基板表面/裏面パイロメータ有

  • ​到達真空度: < 6x10^-9 Torr (酸化物ターゲット導入時)

  • ターゲット機構 (6個+クリア位置)　ツイスト機構付

  • VP製 30 KeV RHEED,  KSA製 解析ソフト

  • 自作ロードロック機構　（サンプルx3, target x1）

  • ICF152 パックマン (防着板回転6回)

  • 手動成膜 (*ターゲットはタッチパネル、マスクはリモコン、加熱は温度調節器によるPID制御と準自動化)

PLD装置#2
PLD装置 (２号機: new k-Pod)

自作（各業者からコンポーネントを個別調達）

  • 基板ランプ加熱 (<850℃)　基板裏面熱電対/表面パイロメータによる温度計測

  • ​到達真空度: < 5x10^-9 Torr (酸化物ターゲット導入時)

  • ターゲット機構 (4個+クリア位置)　ツイスト機構付

  • アールデック製 30 KeV RHEED、自作解析ソフト（像+強度振動）

  • ロードロック機構　（サンプルx2, target x4）

  • ICF152 パックマン ​(防着板回転6回)

  • 自作LabVIEWプログラムによる自動制御 (*スクリプト機能はなし)

No_image_available.svg.png
mist-CVD装置

自作中

Nd:YAG#1
Nd:YAG (1号機)

LOTIS TII製　ランプ励起ナノ秒 Nd:YAG レーザー LS-2145

  • 基本波(1064 nm), ２倍波(532 nm), 4倍波(266 nm)が発振可能 

  • パルス幅が14-16 nmと長く、アブレーションレーザとして使用

YAG2.jpg
Nd:YAG (2号機)

LOTIS TII製　ランプ励起ナノ秒 Nd:YAG レーザー LS-2131

  • 高調波ユニットにより 基本波(1064 nm), ２倍波(532 nm), ３倍波(355 nm), 4倍波(266 nm)を発振

  • ​レーザ照射実験に使用

TubeFurnace_HT.jpg
管状炉#1 (高温)

山田電機製　卓上高温管状炉TSR-430と制御盤YKC-52

  • 常用1400℃、最高1500ºC

  • ターゲット焼結や基板のステップ出しに使用

  • ​大気下での焼結のみ

管状炉#2
管状炉#2 (低温)

​アサヒ理化製作所製　ARF-50KCと簡易温度コントローラー

  • ​常用1000ºC

  • O2, N2, Arなどのガスフローが可能

  • ​自作のタイマーにより簡易な時間制御も可能

*異動に伴い現在は使用を休止中

管状炉#3
管状炉#3 （水素還元炉）

フルテック製　卓上管状雰囲気電気炉 FT-02VAC-15

  • ​常用1000ºC

  • マスフローメータと水素検知器により100 % H2中での加熱

  • 試料の還元焼結に使用

MILA5000
ランプ加熱装置

アドバンス理工製 MILA-5000

  • 常用1000ºC

  • 赤外線ランプによる急速加熱

  • 真空中、ガスフロー中の加熱

暗室
顕微鏡露光装置
スピンコーター
ホットプレート
暗室（イエロールーム）

シグマ光機製の特注品

  • ​暗室内には顕微鏡露光装置、スピンコータ、ホットプレートを常設

  • イエローライトが装着され、フォトリソプロセス用に使用

顕微鏡露光装置（暗室内）

アームスシステム製 UTA-IIIA

  • DLPプロジェクタと顕微鏡を用いたフォトリソ用の露光装置

  • 顕微鏡ステージを自作改良し、簡便なマスク合わせを実現

  • レンズを特殊な低倍率仕様に変更し、様々なサイズのデバイスを形成

スピンコーター（暗室内）

ハイソル製 ACE-200

フォトリソ​レジストや薄膜原料の塗布に使用

３連ホットプレート（暗室内）

アズワン製 TH-900

  • ​レジストのpre-bake, post-bake, image-revsersal bakeに使用

  • ３連独立で各プロセスで乗せるプレートを変更するだけでOK

XRD.jpeg
薄膜XRD装置

Malvern Panalytical製 Empyrean

装置構成:
  • 1.8 kW Cu管球
  • Ge 220ハイブリッドミラー (Ka1モノクロ化)
  • 3 軸 (χ、φ、Z) クレードル
  • ダブルアーム検出器: Xe検出器 (0次元), PIXcel3D (2次元)
JPK_AFM.jpg
原子間力顕微鏡
JPK instruments製 NanoWizard II

オリンパス製の蛍光顕微鏡付

低温rT装置
電気抵抗率測定装置（低温）

自作　（ハードウエアの一部はエキップ製）

  • Daikin 製 He 冷凍機 UV202CLにより、10 Kまでの試料冷却

  • LakeShore 331 温度コントローラ

  • Siダイオードセンサx2、カートリッジヒータx1

  • ​自作の自動端子切替Boxを使い２サンプル同時の直流４端子測定

  • 自作LabVIEWプログラムによる自動測定

  • ​自作PCBによる試料マウントパッケージ

高温rT装置
電気抵抗率測定装置（高温）PPHL-800

パスカル製　PPHL-800、（計測ソフトは自作）

  • Scientific Instruments Model 9700温度コントローラ

  • Keithley 2450ソースメータ

  • 室温~750 Kまでの直流４端子測定

  • LabVIEW制御による自動測定

  • Niによる高温の温度校正

ホール効果装置
直流ホール効果装置

​自作

  • GMW社製の3480​電磁石と松定プレジョンのバイポーラ電源POPF45-26.7-LEtにより、常用±1.2 Tの直流/交流磁場

  • 試料周りと計測システムはハード・ソフト共に自作

  • ​現状は室温測定のみ、将来は10 K以下の冷却システムを構築予定

二交流ホール効果測定装置
二交流ホール効果装置

​自作

  • ステッピングモータとネオジム磁石で0.5 T, 100 Hzの交流磁場

  • ​制御ラック、リモコン、試料周りなど全て自作

*異動に伴い現在は使用を休止中​

四端子プローバー
4端子プローバー

自作

  • 手持ちの顕微鏡、光学部品、マニュアルプローブを再利用

​*現在設計制作中

no data available
顕微鏡試料加熱装置
自作　（試料周りはエキップ製）

  • 室温~600 Kくらいまでの自動温度調節が可能

  • ​温度変化のRaman分光測定に利用

  • BNC端子x4により、高温での電気測定も可能

no data available
各種エレクトロニクス

  • ソースメータ (Keithley2450 x2台)

  • ロックインアンプ (NF LI5650)

  • AC/DC電流ソース (Lakeshore AC-155)

  • 電圧制御電流源  (SRS CS580)

  • オシロスコープ （AS ONE）

  • ファンクションジェネレータ (Pico test)

​を保有し、各装置に適宜接続することで実験を進めている。

粗排気#1
粗排気#2
粗排気 (左:1号機、右:2号機)

自作

  • 手持ちの真空計, TMP, RP, 真空部品を使い、Alフレームで外枠を作製

  • 各種電気抵抗装置や炉の真空排気様

  •  10^-6 Torr以下の​到達真空度

グローブボックス
グローブボックス

UNICO 製　UN-650L

  • 自動ガス置換ボックス付

  • フランジポートICF152 x2, ICF114x1

  • Ar雰囲気下での嫌気性の材料の取り扱いや電気測定などに利用

ワークステーション
計算用ワークステーション #1 & 2

Precision 7820 Tower x1台、HP Z840 x1台

  • ローカル環境でのQuantum ESPRESSOによるDFT計算に利用

  • 重い計算はTSUBAMEへ

酸素分圧制御装置

ST-Lab製　SiOC-200CB

  • ジルコニア式酸素ポンプにより酸素圧力を< 10^-26 atmまで低減

  • ​還元性固相エピタキシの雰囲気制御に利用

bottom of page